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產(chǎn)品中心

熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

PD-200I小型蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

PD-300高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

PD-400高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

PD-400S/450S高真空蒸鍍設(shè)備(手套箱）

PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

PD-line型蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

連續(xù)進(jìn)樣蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

PD-6Z桌面式蒸發(fā)鍍膜儀
磁控濺射鍍膜設(shè)備

PD-200C小型磁控濺射設(shè)備

PD-300C小型磁控濺射設(shè)備

PD-400C高真空磁控濺射設(shè)備

PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設(shè)備

PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備

PD-5000C磁控濺射鍍膜設(shè)備

連續(xù)進(jìn)樣磁控濺射設(shè)備

PD-3000C氧化鎳（NiOx）磁控濺射設(shè)備

PD-3000C電極磁控濺射設(shè)備

PD-6C桌面式磁控濺射儀
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

PD-500/600電子束真空蒸鍍設(shè)備

PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備
原子沉積設(shè)備（ALD）

PD-ALD200D雙腔室熱型原子層沉積設(shè)備

PD-ALD100A原子層沉積設(shè)備
等離子清洗設(shè)備

PD-150Q等離子清洗機

PD-300Q等離子清洗機

PD-600Q等離子清洗機

PD-6桌面式等離子清洗機
鈣鈦礦電池真空設(shè)備領(lǐng)域

PD-400高真空蒸鍍設(shè)備

PD-400C高真空磁控濺射

PD-400S/450S高真空蒸鍍設(shè)備(手套箱）

PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設(shè)備

PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

ALD-100原子沉積設(shè)備

連續(xù)進(jìn)樣蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備

連續(xù)進(jìn)樣磁控濺射設(shè)備

PD-150Q射頻等離子清洗機

PD-300Q射頻等離子清洗機

PD-600Q射頻等離子清洗機

PD-VCD真空閃蒸儀
固態(tài)鋰電池真空設(shè)備領(lǐng)域

PD-500/600電子束真空蒸鍍設(shè)備

PD-400高真空蒸鍍設(shè)備

PD-400C高真空磁控濺射

PD-400S/450S高真空蒸鍍設(shè)備(手套箱）

PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設(shè)備

ALD-100原子沉積設(shè)備

PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設(shè)備
金剛石沉積真空設(shè)備領(lǐng)域

PD-60/80MP微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備

PD-450/600H熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備

PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備

PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設(shè)備

等離子滲金屬
非標(biāo)定制真空設(shè)備

PD-700多功能離子鍍膜設(shè)備

PD-350H高真空電弧熔煉爐

PECVD管式爐

真空腔體/環(huán)境模擬非標(biāo)設(shè)備

PD-VCD真空閃蒸儀

PD-500M派瑞林納米鍍膜設(shè)備

PECVD

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等離子滲金屬

產(chǎn)品摘要

等離子體滲金屬技術(shù)是不等點位對陰極雙輝光放電模式，其原理是將電源在源極和共用陽極（真空腔體）之間激勵的輝光放電，以離子濺射的方式將源極材料從其表面濺射出來并沉積在緊鄰的陰極表面上。同時另外一套電源加載在陰極和共用陽極上并產(chǎn)生輝光放電，使其陰極表面溫度達(dá)到1100度以上，這將直接導(dǎo)致沉積于陰極表面的材料成分通過擴(kuò)散滲透到陰極工件表層。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸：雙層水冷腔體直徑600mm×高650mm

★真空極限：≤5x10-4Pa

★抽速保壓：8×10-3Pa≤25min

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等離子滲金屬

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