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產(chǎn)品中心

產(chǎn)品摘要

該設(shè)備可用于Ti、Cu、Ni等各種金屬膜及介電薄膜、氧化物薄膜的大面積連續(xù)制備，可在工件上制作單面或雙面的單層膜和多層膜。系統(tǒng)非常適合制備高均勻性、高重復(fù)性的薄膜材料以及產(chǎn)業(yè)化。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，布局合理；合理利用空間且方便檢修。

★設(shè)備配備小車進(jìn)料出料，方便快捷，節(jié)省鍍膜生產(chǎn)時(shí)間。

★樣品架移動(dòng)加偏壓設(shè)計(jì)，提高膜層結(jié)合力。

★雙軌道設(shè)計(jì)穩(wěn)定可靠，即使在高溫環(huán)境下小車各室傳遞及運(yùn)動(dòng)也能平穩(wěn)勻速，從而保證薄膜質(zhì)量。

設(shè)備參數(shù)：
★整機(jī)尺寸：3.6（L)×1.2（W)×1.8（H)（單位M）

★真空室（三/五腔室）（L×W×Hmm)：2600x2200x450mm

★真空極限：（2E﹣04）Pa

★濺射靶：800×120×7mm 2-4支根據(jù)實(shí)際需要選擇配備

★樣品加熱：加熱溫度≥300℃，控制精度±1度，均勻性±5°

★有效濺射面積：670mm×80mm

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