?整個工件范圍內(nèi)均勻性優(yōu)于+/-5%

?極限真空優(yōu)于 5×10-5Pa

? 系統(tǒng)漏率≤2x10-8Pa.l/S

?托盤 4 英寸范圍內(nèi)成膜均勻性優(yōu)于±5%

適用于實驗室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜、掃描電鏡制樣電極材料制備等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗等，整套設(shè)備操作簡便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，適合及滿足高等院校的教學(xué)與科研工作。

四月的華南師范大學(xué)，紫荊花開滿枝頭，校園內(nèi)春意盎然。作為國家“雙一流”建設(shè)高校，這里不僅書卷飄香，更以開放包容的學(xué)風(fēng)，滋養(yǎng)著一代代學(xué)子的求知夢想。

普迪真空工程師提前與實驗室負(fù)責(zé)人確認(rèn)冷卻水循環(huán)、供電容量等條件，確保安裝一次通過。設(shè)備就位后，依次完成主機(jī)與泵組連接、真空檢漏、極限真空測試，實測結(jié)果均優(yōu)于出廠指標(biāo)。

設(shè)備成功完成安裝調(diào)試以后，開展了專項培訓(xùn)。內(nèi)容涵蓋設(shè)備操作規(guī)范、溫度程序設(shè)置及安全互鎖邏輯等關(guān)鍵知識點，確保研究人員能夠獨立、安全地使用該設(shè)備。